匀胶机：顾名思义,是把胶均匀地涂在基片上的一种机器。方法很多，有滚涂，浸涂，喷涂，旋涂等，各有优缺点。不同的应用采取不同的涂胶方法。其中旋涂用得蕞多，那是因为它能取得蕞高的均匀性，是半导体微电子里光刻工艺的通用的方法。

作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，匀胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。可以设定多达20个程序段来存储不同材料的制备过程，每个程序段都能设定51步速度改变，当前参数具断电保护功能。