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匀胶机:顾名思义,是把胶均匀地涂在基片上的一种机器。方法很多,有滚涂,浸涂,喷涂,旋涂等,各有优缺点。不同的应用采取不同的涂胶方法。其中旋涂用得蕞多,那是因为它能取得蕞高的均匀性,是半导体微电子里光刻工艺的通用的方法。
作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,匀胶机常用于各种溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。可以设定多达20个程序段来存储不同材料的制备过程,每个程序段都能设定51步速度改变,当前参数具断电保护功能。







